LOGO PATCH BEANIE - Mütze - ivory
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- Material Oberstoff:
- 45% Viskose, 30% Wolle, 20% Nylon, 5% Elasthan
- Materialkonstruktion:
- Ripp
- Pflegehinweise:
- Chemische Reinigung
- Muster:
- Unifarben
- Artikelnummer:
- R8I51B02P-A11
RUSLAN BAGINSKIY
Outfit-Inspiration
